【快速退火爐】是用于制作半導體元器件制作工藝，主要包括加熱多個半導體晶片以影響它們電性能。熱處理是為了不同的需求而設計。能夠加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉換成薄膜或晶片襯底界面，密集沉積薄膜，更改生長薄膜的狀態(tài)，修復注入的損傷，將摻雜劑由一個薄膜移動或轉移到其他薄膜，也可以從薄膜進入晶片襯底。

這樣的話快速退火爐分為哪幾種呢？

一、鋁合金快速退火爐。

主要運用于鋁合金、鋁板的熱處理和均熱退火。

鋁合金快速退火爐由臺車爐體、循環(huán)系統(tǒng)、導流設備、加熱元件、裝料臺車、爐門升降機構和電氣控制系統(tǒng)構成。

二、井式真空快速退火爐。

主要用于圓線材和鋼帶退火。真空加熱退火，不滲氮不脫碳，使工件退火后保持光亮。真空快速退火爐主要是由爐體、爐襯、真空泵、循環(huán)風機和電氣控制系統(tǒng)構成。

三、多管不銹鋼絲光亮快速退火爐。

它是由加熱爐、冷卻器、放卷機構和電控系統(tǒng)構成。

主要應用于不銹鋼絲、銅線、鐵絲等等的光亮退火。

四、井式快速退火爐。

主要用于圓線材和不銹鋼線材，拉伸前退火，氧化少，無脫碳，使工件退火后始終保持整齊有序。特點：可配置多臺爐，多工位操作可節(jié)省人力資源，提高工作效率，節(jié)能降耗，降低成本。

五、臺車式快速退火爐主要運用于銅排、鑄鋼件、汽車零部件、軋輥、鋼球、金屬結構件及焊件的正火及退火熱處理。臺車式快速退火爐主要是由爐門升降和密封設備、爐車、爐車傳動機構、電加熱設備和溫度控制系統(tǒng)構成?？梢栽谒降孛媸褂?，不需要基礎組裝。

六、罩式快速退火爐。

此設備可廣泛應用于有色金屬銅、鋁合金、黑色金屬、普碳鋼、硅鋼、合金鋼及其他卷、卷、線等等的退火。沒有氮化和脫碳，使工件退火后能保持整齊有序。該快速退火爐具有生產效率高、產品品質好、能耗低、無污染、自動化操作、安全靠譜等優(yōu)勢。罩式爐由加熱罩、2個爐座、閥門框架和電氣控制系統(tǒng)構成。

七、網帶式不銹鋼快速退火爐。

它是由進料臺、加熱區(qū)、冷卻段、氨分解爐、電氣控制系統(tǒng)等部分組成。主要是適合各種不銹鋼、銅、鐵制品在保障氣氛控制下的連續(xù)光亮退火和固溶處理。