干/濕法刻蝕
干法刻蝕是用等離子體進(jìn)行薄膜刻蝕的技術(shù)。
濕法刻蝕是將刻蝕材料浸泡在腐蝕液內(nèi)進(jìn)行腐蝕的技術(shù)。
適用產(chǎn)品：On Wafer WLS無線晶圓測溫系統(tǒng)、On Wafer WHS無線晶圓測溫系統(tǒng)、AGS晶圓型間隙量測片、VMS晶圓型厚度量測片
