廣東瑞樂科技專注于高精度溫測、溫控設(shè)備的生產(chǎn)和研發(fā)定做，為半導(dǎo)體行業(yè)提供科學(xué)的國產(chǎn)解決方法，更多有關(guān)快速退火爐 ?TC Wafer??晶圓測溫系統(tǒng)資訊請關(guān)注瑞樂官網(wǎng)。

RTP-SA-12RTP-SA-12半自動快速退火爐是在保護(hù)氣氛下的半自動立式快速退火系統(tǒng)，以紅外可見光加熱單片Wafer或樣品，工藝時(shí)間短，控溫精度高，適用4-12英寸晶片。相對于傳統(tǒng)擴(kuò)散爐退火系統(tǒng)和其他RTP系統(tǒng)，其獨(dú)特的腔體設(shè)計(jì)、先進(jìn)的溫度控制技術(shù)和獨(dú)有的RL900軟件控制系統(tǒng)，確保了極好的熱均勻性。【RTP快速退火爐】

產(chǎn)品特點(diǎn)

（PRODUCTFEATURES）

紅外鹵素?zé)艄芗訜?，冷卻采用風(fēng)冷:

燈管功率PID控溫，可精準(zhǔn)控制溫度升溫，保證良好的重現(xiàn)性與溫度均勻性:

采用平行氣路進(jìn)氣方式，氣體的進(jìn)入口設(shè)置在Wafer表面，避免退火過程中冷點(diǎn)產(chǎn)生，保證產(chǎn)品良好的溫度均勻性.

大氣與真空處理方式均可選擇，進(jìn)氣前氣體凈化處理

標(biāo)配兩組工藝氣體，最多可擴(kuò)展至6組工藝氣體，

可測單品片樣品的最大尺寸為12英寸(300x300mm)

采用爐門安全溫度開啟保護(hù)、溫控器開啟權(quán)限保護(hù)以及設(shè)備急停安全保護(hù)三重安全措施，全方位保障儀器使用安全。

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行業(yè)應(yīng)用【RTP快速退火爐】

（INDUSTRYAPPLICATIONS）

氧化物、氮化物生長

硅化物合金退火

砷化家工藝

歐姆接觸快速合金

氧化回流

其他快速熱處理工藝

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基本配置

BASICCONFIGURATION

廣東瑞樂科技專注于高精度溫測、溫控設(shè)備的生產(chǎn)和研發(fā)定做，為半導(dǎo)體行業(yè)提供科學(xué)的國產(chǎn)解決方法，更多有關(guān)快速退火爐 ?TC Wafer??晶圓測溫系統(tǒng)資訊請關(guān)注瑞樂官網(wǎng)。